| 半导体含硅废水形成动态膜的影响因素研究 | |
| 张扬; 闫晗; 柳丽芬; 杨凤林; 高岗大造; 徐林虓 | |
| 刊名 | 中国给水排水
 |
| 2013 | |
| 卷号 | 29页码:90-93 |
| 关键词 | 半导体含硅废水 平板膜 微滤 动态膜 |
| ISSN号 | 1000-4602 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4533189 |
| 专题 | 大连理工大学 |
| 作者单位 | 1.三洋电机有限公司大连分公司,辽宁大连,116023 2.大连理工大学环境与生命学院工业生态与环境工程教育部重点实验室,辽宁大连,116023 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张扬,闫晗,柳丽芬,等. 半导体含硅废水形成动态膜的影响因素研究[J]. 中国给水排水,2013,29:90-93. |
| APA | 张扬,闫晗,柳丽芬,杨凤林,高岗大造,&徐林虓.(2013).半导体含硅废水形成动态膜的影响因素研究.中国给水排水,29,90-93. |
| MLA | 张扬,et al."半导体含硅废水形成动态膜的影响因素研究".中国给水排水 29(2013):90-93. |
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