| 纳米尺度栅线结构的线边缘粗糙度分析和表征 | |
| 赵凤霞; 蒋庄德; 景蔚萱 | |
| 刊名 | 计量学报
 |
| 2010 | |
| 期号 | [db:dc_citation_issue]页码:481-485 |
| 关键词 | 线边缘粗糙度 线宽粗糙度 计量学 扫描电子显微镜 纳米栅线结构 |
| ISSN号 | 1000-1158 |
| DOI | [db:dc_identifier_doi] |
| URL标识 | 查看原文 |
| WOS记录号 | [db:dc_identifier_wosid] |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4504216 |
| 专题 | 西安交通大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵凤霞,蒋庄德,景蔚萱. 纳米尺度栅线结构的线边缘粗糙度分析和表征[J]. 计量学报,2010([db:dc_citation_issue]):481-485. |
| APA | 赵凤霞,蒋庄德,&景蔚萱.(2010).纳米尺度栅线结构的线边缘粗糙度分析和表征.计量学报([db:dc_citation_issue]),481-485. |
| MLA | 赵凤霞,et al."纳米尺度栅线结构的线边缘粗糙度分析和表征".计量学报 .[db:dc_citation_issue](2010):481-485. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论