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	掺杂与退火温度对VO2薄膜性能的影响
	周序乐[1]; 唐振方[1]; 彭舒[1]
	2008
卷号	26期号:3页码:75
关键词	真空蒸发 VO2薄膜 掺杂 相变 光透过率
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4447261
专题	暨南大学
作者单位	[1]暨南大学物理系,广东广州510632
推荐引用方式 GB/T 7714	周序乐[1],唐振方[1],彭舒[1]. 掺杂与退火温度对VO2薄膜性能的影响[J],2008,26(3):75.
APA	周序乐[1],唐振方[1],&彭舒[1].(2008).掺杂与退火温度对VO2薄膜性能的影响.,26(3),75.
MLA	周序乐[1],et al."掺杂与退火温度对VO2薄膜性能的影响".26.3(2008):75.

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