Ti稳定N的三元Cu合金薄膜 | |
李晓娜; 赵丽荣; 郑月红; 董闯 | |
刊名 | 稀有金属材料与工程 |
2016 | |
卷号 | 45页码:2366-2372 |
关键词 | Cu合金 薄膜 磁控溅射 硬度 电阻率 |
ISSN号 | 1002-185X |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4369680 |
专题 | 大连理工大学 |
作者单位 | 1.大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室 2.大连理工常州研究院有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李晓娜,赵丽荣,郑月红,等. Ti稳定N的三元Cu合金薄膜[J]. 稀有金属材料与工程,2016,45:2366-2372. |
APA | 李晓娜,赵丽荣,郑月红,&董闯.(2016).Ti稳定N的三元Cu合金薄膜.稀有金属材料与工程,45,2366-2372. |
MLA | 李晓娜,et al."Ti稳定N的三元Cu合金薄膜".稀有金属材料与工程 45(2016):2366-2372. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论