| 相位掩模版法刻制光纤光栅的研究 | |
| 杜戈[1]; 刘伟平[2]; 廖常俊[3]; 刘颂豪[3] | |
| 2001 | |
| 期号 | 2页码:40 |
| 关键词 | 光纤光栅 刻制 相位掩模版法 反射率 光谱 载氢处理 光敏性 光纤通信 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4318700 |
| 专题 | 暨南大学 |
| 作者单位 | 1.[1]华南师范大学量子电子学研究所,广州市电信局, 2.[2]华南师范大学量子电子学研究所,暨南大学电子工程学系, 3.[3]华南师范大学量子电子学研究所, |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杜戈[1],刘伟平[2],廖常俊[3],等. 相位掩模版法刻制光纤光栅的研究[J],2001(2):40. |
| APA | 杜戈[1],刘伟平[2],廖常俊[3],&刘颂豪[3].(2001).相位掩模版法刻制光纤光栅的研究.(2),40. |
| MLA | 杜戈[1],et al."相位掩模版法刻制光纤光栅的研究"..2(2001):40. |
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