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	谷胱甘肽、表面活性剂共存体系对青蒿素过氧键稳定性的影响
	杨培慧[1,2]; 苏章益[2]; 周志军[2]; 蔡继业[2]
	2006
卷号	34期号:3页码:367
关键词	青蒿素 谷胱甘肽 表面活性剂 循环伏安法
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4304522
专题	暨南大学
作者单位	1.[1]中国科学院安徽精密机械研究所,合肥230031 2.[2]暨南大学化学系,广州510632
推荐引用方式 GB/T 7714	杨培慧[1,2],苏章益[2],周志军[2],等. 谷胱甘肽、表面活性剂共存体系对青蒿素过氧键稳定性的影响[J],2006,34(3):367.
APA	杨培慧[1,2],苏章益[2],周志军[2],&蔡继业[2].(2006).谷胱甘肽、表面活性剂共存体系对青蒿素过氧键稳定性的影响.,34(3),367.
MLA	杨培慧[1,2],et al."谷胱甘肽、表面活性剂共存体系对青蒿素过氧键稳定性的影响".34.3(2006):367.

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