| ETV-ICP-AES中硼、钼、铬和硅的蒸发机理研究 | |
| 胡斌; 江祖成; 曾云鹗 | |
| 刊名 | 武汉大学学报.自然科学版
 |
| 1995 | |
| 卷号 | 41 |
| 关键词 | 难熔元素 电热蒸发 等离子体光谱 聚四氟乙烯 蒸发机理 |
| ISSN号 | 0253-9888 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 其他 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4181042 |
| 专题 | 武汉大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡斌,江祖成,曾云鹗. ETV-ICP-AES中硼、钼、铬和硅的蒸发机理研究[J]. 武汉大学学报.自然科学版,1995,41. |
| APA | 胡斌,江祖成,&曾云鹗.(1995).ETV-ICP-AES中硼、钼、铬和硅的蒸发机理研究.武汉大学学报.自然科学版,41. |
| MLA | 胡斌,et al."ETV-ICP-AES中硼、钼、铬和硅的蒸发机理研究".武汉大学学报.自然科学版 41(1995). |
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