| 表面活性剂对电沉积镍/纳米二氧化钛复合层的影响 | |
| 陈玉梅; 左正忠; 杨磊; 王志军 | |
| 刊名 | 表面技术
 |
| 2005 | |
| 卷号 | 34期号:5 |
| 关键词 | 表面活性剂 复合电沉积 纳米TiO2 离子型表面活性剂 非离子型表面活性剂 |
| ISSN号 | 1001-3660 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 收录类别 | CSCD ; CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4078764 |
| 专题 | 武汉大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈玉梅,左正忠,杨磊,等. 表面活性剂对电沉积镍/纳米二氧化钛复合层的影响[J]. 表面技术,2005,34(5). |
| APA | 陈玉梅,左正忠,杨磊,&王志军.(2005).表面活性剂对电沉积镍/纳米二氧化钛复合层的影响.表面技术,34(5). |
| MLA | 陈玉梅,et al."表面活性剂对电沉积镍/纳米二氧化钛复合层的影响".表面技术 34.5(2005). |
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