脉冲激光溅射沉积WO_3气敏膜

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	脉冲激光溅射沉积WO_3气敏膜
	赵岩,冯钟潮,张炳春,梁勇
刊名	传感技术学报
	1998-11-15
期号	4 页码:78-82
关键词	气体传感器脉冲激光溅射镀膜 WO_3膜
中文摘要	本文研究了脉冲激光溅射镀膜技术沉积WO_3基片在室温下,沉积的WO_3膜部分晶化并部分还原.经热处理,在450℃左右膜层开始晶化,最后形成三斜晶系的WO_3晶化后颗粒在几十到几百纳米之间.本技术沉积的WO_3膜对NO_2气体有非常好的气敏性能,可检测0.1×10~(-6)量级的NO_2气体.WO_3膜的灵敏度随温度降低而增大,但同时响应时间和恢复时间增长.同其它制备技术相比,本技术沉积的WO_3膜显著提高了响应性能:响应时间和恢复时间,它们分别为30_s和70_s.
公开日期	2012-04-12
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27590]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	赵岩,冯钟潮,张炳春,梁勇. 脉冲激光溅射沉积WO_3气敏膜[J]. 传感技术学报,1998(4):78-82.
APA	赵岩,冯钟潮,张炳春,梁勇.(1998).脉冲激光溅射沉积WO_3气敏膜.传感技术学报(4),78-82.
MLA	赵岩,冯钟潮,张炳春,梁勇."脉冲激光溅射沉积WO_3气敏膜".传感技术学报 .4(1998):78-82.