离子镀硬质膜技术的最新进展和展望

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	离子镀硬质膜技术的最新进展和展望
	闻立时,黄荣芳
刊名	真空
	2000-01-15
期号	1 页码:1-11
关键词	硬质新材料多层复合远离平衡态工艺低温沉积二重工艺
中文摘要	电弧离子镀至今仍是硬质膜的主流技术 ,但是 ,其内容与 80年代比已大为丰富。首先 ,镀层材料由单一氮化钛 ,发展到氮化钛与碳氮化钛、氮化钛铝、氮化铬等多种材料并用。然后 ,又进一步发展为多层复合镀层。远离平衡态过程的低温沉积技术日趋成熟 ,使各种机械零件的需磨损耐腐蚀镀层逐步走向实用化 ,促进了机械工业水平全面提高。低温沉积技术大幅度降低镀层内应力 ,使镀层的厚度能够达到数十 ,甚至上百微米 ,满足了发展高性能特种镀层的需要 ,如 Ti B2 抗空蚀镀层、Ti(C,N)抗冲蚀镀层 ,电弧离子镀制备 MCr Al Y镀层 ,现已进入产业化。与此同时 ,Ti N复合膜作为耐磨耐蚀镀层也取得了成功。展望 2 1世纪 ,复合多层膜将得到更加广泛的应用 ,并向纳米复合膜发展。镀膜机内渗氮镀膜连续二重工艺可望成功 ,并在提高耐磨耐蚀性上取得显著效果。远离平衡态镀膜技术水平将进一步提高 ,成本大幅度降低 ,并在合成新型镀层材料、制备厚镀层、提高镀层性能上取得大量实用性成果
公开日期	2012-04-12
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27341]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	闻立时,黄荣芳. 离子镀硬质膜技术的最新进展和展望[J]. 真空,2000(1):1-11.
APA	闻立时,黄荣芳.(2000).离子镀硬质膜技术的最新进展和展望.真空(1),1-11.
MLA	闻立时,黄荣芳."离子镀硬质膜技术的最新进展和展望".真空 .1(2000):1-11.