有序介孔SiO_2在低表面活性剂下的制备及表征

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	有序介孔SiO_2在低表面活性剂下的制备及表征
	王金忠,赵岩,张彩碚,王明光
刊名	沈阳建筑工程学院学报(自然科学版)
	2002-07-15
期号	3 页码:197-200
关键词	有序介孔SiO2 低表面活性剂模板剂分子自组装
中文摘要	论述了碱性介质条件下 ,采用低表面活性剂浓度 ,在表面活性剂与硅源的摩尔比仅为 0 0 6∶1的条件下 ,利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用 ,在溶液中形成分子自组装体 ,进而形成有序介孔SiO2 材料 .并对其进行HRTEM分析和小角度XRD分析 ,以及红外可见光谱FT -IR分析 .研究表明 :在低表面活性剂下 ,经分子自组装可形成排列有序的六方结构 .水热条件下使分子的作用增强 ,介孔骨架中硅原子的聚集度提高 .实验说明铝原子的引入取代部分硅原子导致晶格增大 ,并可使有序介孔结构保持完好
公开日期	2012-04-12
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26473]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	王金忠,赵岩,张彩碚,王明光. 有序介孔SiO_2在低表面活性剂下的制备及表征[J]. 沈阳建筑工程学院学报(自然科学版),2002(3):197-200.
APA	王金忠,赵岩,张彩碚,王明光.(2002).有序介孔SiO_2在低表面活性剂下的制备及表征.沈阳建筑工程学院学报(自然科学版)(3),197-200.
MLA	王金忠,赵岩,张彩碚,王明光."有序介孔SiO_2在低表面活性剂下的制备及表征".沈阳建筑工程学院学报(自然科学版) .3(2002):197-200.