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TiN基IrO_2-Ta_2O_5涂层析氢电极的催化性能
徐海波 ; 姜俊峰 ; 王廷勇 ; 王佳 ; 许立坤
刊名催化学报
2006-11-30
期号11页码:952-956
关键词氮化钛 氧化铱 氧化钽 电催化 析氢反应
中文摘要采用热分解法制备了以离子镀TiN膜为基体的IrO2-Ta2O5涂层电极,通过循环极化曲线并结合扫描电镜、X射线能谱和X射线衍射研究了涂层的析氢电催化性能.结果表明,涂层呈多孔多裂纹的结构,焙烧温度对涂层的表面形貌和电催化活性影响很大.420℃下焙烧的涂层具有最优的电催化活性.涂层电极的析氢反应电极电位为-0?26V(vsSCE),低析氢过电位下的Tafel斜率为-0?04V,而在高析氢过电位下,电极表面吸附的大量氢原子改变了氧化物电极的结构,从而抑制了氧的阴极还原反应.
公开日期2012-04-12
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24900]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
徐海波,姜俊峰,王廷勇,等. TiN基IrO_2-Ta_2O_5涂层析氢电极的催化性能[J]. 催化学报,2006(11):952-956.
APA 徐海波,姜俊峰,王廷勇,王佳,&许立坤.(2006).TiN基IrO_2-Ta_2O_5涂层析氢电极的催化性能.催化学报(11),952-956.
MLA 徐海波,et al."TiN基IrO_2-Ta_2O_5涂层析氢电极的催化性能".催化学报 .11(2006):952-956.
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