中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质

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	中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质
	廖国进 ; 闻立时 ; 巴德纯 ; 刘斯明
刊名	东北大学学报(自然科学版)
	2007-05-15
期号	5 页码:687-691
关键词	Al2O3薄膜光学性质折射率吸收系数膜厚度
中文摘要	采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长相互关系的分析,获得了Al2O3薄膜在400~1 100 nm区域内的折射率、吸收系数与入射光波长的关系式,以及Al2O3薄膜厚度的计算公式.
公开日期	2012-04-12
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24725]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	廖国进,闻立时,巴德纯,等. 中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质[J]. 东北大学学报(自然科学版),2007(5):687-691.
APA	廖国进,闻立时,巴德纯,&刘斯明.(2007).中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质.东北大学学报(自然科学版)(5),687-691.
MLA	廖国进,et al."中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质".东北大学学报(自然科学版) .5(2007):687-691.