电参数对镁合金微弧氧化膜厚度的影响 | |
张荣发 ; 单大勇 ; 陈荣石 ; 韩恩厚 | |
刊名 | 中国有色金属学报 |
2007-10-15 | |
期号 | 10页码:1574-1579 |
关键词 | 镁合金 微弧氧化 电参数 厚度 |
中文摘要 | 在自行研制的电解液中,采用四因素三水平正交实验,系统研究频率、占空比、电流密度和终电压对AZ91HP镁合金氧化膜厚度的影响。结果表明,各因素的主次顺序为终电压>电流密度>占空比>频率。终电压对氧化膜厚度影响显著,电流密度对氧化膜厚度有影响但不显著,占空比和频率对氧化膜厚度无显著影响。氧化膜层的耐蚀性并不是仅仅由厚度决定,而是由多种因素综合作用的结果。 |
公开日期 | 2012-04-12 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24604] |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张荣发,单大勇,陈荣石,等. 电参数对镁合金微弧氧化膜厚度的影响[J]. 中国有色金属学报,2007(10):1574-1579. |
APA | 张荣发,单大勇,陈荣石,&韩恩厚.(2007).电参数对镁合金微弧氧化膜厚度的影响.中国有色金属学报(10),1574-1579. |
MLA | 张荣发,et al."电参数对镁合金微弧氧化膜厚度的影响".中国有色金属学报 .10(2007):1574-1579. |
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