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多铁性BiFeO_3/SrTiO_3多层膜的透射电镜研究
唐兆俊 ; 王君伟 ; 朱银莲 ; 唐为华 ; 马秀良
刊名电子显微学报
2010-08-15
期号4页码:338-343
关键词多铁性 多层膜 界面 透射电子显微术
中文摘要本文利用透射电子显微镜(TEM)研究了由磁控溅射法生长的多铁性BiFeO3/SrTiO3多层膜的微观结构。衍衬分析及高分辨电子显微(HRTEM)像显示出界面清晰的各个单层。BiFeO3外延生长在SrTiO3(001)衬底上,生长方向沿基体c轴。随着薄膜厚度的增加,即多层膜周期的加长,层与层之间界面不再平直。原子序数Z衬度成像,EDS线扫以及各种元素的能量过滤综合分析确定了多层膜的成分变化特征。
公开日期2012-04-12
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23737]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
唐兆俊,王君伟,朱银莲,等. 多铁性BiFeO_3/SrTiO_3多层膜的透射电镜研究[J]. 电子显微学报,2010(4):338-343.
APA 唐兆俊,王君伟,朱银莲,唐为华,&马秀良.(2010).多铁性BiFeO_3/SrTiO_3多层膜的透射电镜研究.电子显微学报(4),338-343.
MLA 唐兆俊,et al."多铁性BiFeO_3/SrTiO_3多层膜的透射电镜研究".电子显微学报 .4(2010):338-343.
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