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AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程(英文)
刘锋 ; 单大勇 ; 宋影伟 ; 韩恩厚
刊名Transactions of Nonferrous Metals Society of China
2011-04-15
期号4页码:943-948
关键词微弧氧化膜 锆氧化物 MgO 耐腐蚀性
中文摘要采用扫描电镜(SEM)和电子衍射能谱(EDX)研究在含K2ZrF6的溶液中AM50镁合金表面复合微弧体氧化涂层的形成过程。采用电化学阻抗谱(EIS)研究在微弧体氧化制备膜层过程中膜层耐腐蚀性能的变化。结果表明:当电压小于起弧电压时,合金表面膜层的主要成分为MgO和MgF2;当施加电压超过起弧电压时,锆氧化物开始在合金表面沉积,且膜层的耐腐蚀性随着电压的升高而提高。
公开日期2012-04-12
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23466]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
刘锋,单大勇,宋影伟,等. AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程(英文)[J]. Transactions of Nonferrous Metals Society of China,2011(4):943-948.
APA 刘锋,单大勇,宋影伟,&韩恩厚.(2011).AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程(英文).Transactions of Nonferrous Metals Society of China(4),943-948.
MLA 刘锋,et al."AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程(英文)".Transactions of Nonferrous Metals Society of China .4(2011):943-948.
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