电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制

CORC > 金属研究所 > 中国科学院金属研究所

	电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制
	陈康敏 ; 郑陈超 ; 张晓柠 ; 黄燕 ; 关庆丰 ; 宫磊 ; 孙超
刊名	真空科学与技术学报
	2011-11-15
期号	6 页码:681-685
关键词	电弧离子镀 CrNx薄膜熔滴扫描电镜透射电镜
中文摘要	应用电弧离子镀技术,在不同的氮气分压(0.5~2.5 Pa)和脉冲偏压(0~-300 V)条件下对TC4基体沉积CrNx薄膜,采用扫描电镜和透射电镜对镀膜过程中产生的熔滴现象进行分析研究。结果表明,升高氮气分压能减少靶材排出粒子团数量,改变等离子体轰击作用,从而控制熔滴数量及尺寸,改善薄膜表面平整度;脉冲偏压能够使熔滴与薄膜紧密结合,改变熔滴成分,在一定范围内能促进靶材成分熔滴的形成。
公开日期	2012-04-12
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23283]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	陈康敏,郑陈超,张晓柠,等. 电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制[J]. 真空科学与技术学报,2011(6):681-685.
APA	陈康敏.,郑陈超.,张晓柠.,黄燕.,关庆丰.,...&孙超.(2011).电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制.真空科学与技术学报(6),681-685.
MLA	陈康敏,et al."电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制".真空科学与技术学报 .6(2011):681-685.