离子束溅射刻蚀

	离子束溅射刻蚀
	陈国明 ; 傅新定 ; 任琮欣
刊名	电子技术
	1980
期号	10
ISSN号	1000-0755
中文摘要	<正> 离子束溅射刻蚀、离子刻蚀、离子铣以及离子磨削等实属同一概念。离子束能刻蚀任何材料并能加工精细的几何图形。其刻蚀精度仅取决于光刻的水平及其掩膜的性质。目前,离子束溅射刻蚀已能加工出80埃的线条,而化学腐蚀所能达到的极限则为2微米线宽,且有边界轮廓模糊不清、钻蚀、沾污等缺点。离子束溅射刻蚀最突出的优点是窗壁的角度可以控制。这是通过选择入射角度和旋转靶子来完成的,这对金属化覆盖台阶来说极为重要。例如,对镍铁合金,当离子束以0～15度的入射角射到旋转着的靶板时可刻蚀出近于垂直的壁,而其它相关的刻蚀工艺都不
语种	中文
公开日期	2012-03-29
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106407]
专题	上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所）
推荐引用方式 GB/T 7714	陈国明,傅新定,任琮欣. 离子束溅射刻蚀[J]. 电子技术,1980(10).
APA	陈国明,傅新定,&任琮欣.(1980).离子束溅射刻蚀.电子技术(10).
MLA	陈国明,et al."离子束溅射刻蚀".电子技术 .10(1980).