快速热处理技术在集成电路制造上的应用
何德湛 ; 陈学良 ; 朱培青 ; 李东宏
刊名半导体技术
1997
期号06
ISSN号1003-353X
中文摘要主要介绍快速热处理(RTP)技术[1],包括在高速双极IC的快速热退火(RTA)[2]、Ti金属与Si形成低阻的TiSi2接触同时,其上表面形成防止Al往Si中渗透的阻挡层TiN的RTP,及EEPROM隧道薄栅的快速热氧化(RTO)[3]和用N2O加固薄栅用的快速热氮化(RTN)等方面的应用
公开日期2012-03-29
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/106378]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
何德湛,陈学良,朱培青,等. 快速热处理技术在集成电路制造上的应用[J]. 半导体技术,1997(06).
APA 何德湛,陈学良,朱培青,&李东宏.(1997).快速热处理技术在集成电路制造上的应用.半导体技术(06).
MLA 何德湛,et al."快速热处理技术在集成电路制造上的应用".半导体技术 .06(1997).
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace