感应耦合等离子体发射光谱法测定氮化硼和氧化镧中的痕量元素

	感应耦合等离子体发射光谱法测定氮化硼和氧化镧中的痕量元素
	朱锦方 ; 曹秀琴 ; 罗培卿 ; 张雪金
刊名	分析化学
	1980
期号	06
ISSN号	0253-3820
中文摘要	<正> 感应耦合等离子体(ICP)的出现,可誉为原子发射光谱分析法的一次重大突破。它具有灵敏度高、准确度好、干扰少、测定范围广等特点,因而获得了广泛的应用。ICP的溶液进样方式有去溶和不去溶两种。前者检出极限比后者更低,但共存元素和酸度对测定的影响却比后者敏感。因此前者适合于高纯试样经基体分离后进行测定,后者适合于试样的直接测定。根据上述特点,本文将去溶ICP应用于高纯氮化硼中痕量杂质的测定。在高压
语种	中文
公开日期	2012-03-29
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105910]
专题	上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所）
推荐引用方式 GB/T 7714	朱锦方,曹秀琴,罗培卿,等. 感应耦合等离子体发射光谱法测定氮化硼和氧化镧中的痕量元素[J]. 分析化学,1980(06).
APA	朱锦方,曹秀琴,罗培卿,&张雪金.(1980).感应耦合等离子体发射光谱法测定氮化硼和氧化镧中的痕量元素.分析化学(06).
MLA	朱锦方,et al."感应耦合等离子体发射光谱法测定氮化硼和氧化镧中的痕量元素".分析化学 .06(1980).