题名 | 应用于集成电路器件的超薄栅氧化层工艺研发 |
作者 | 孙凌 |
学位类别 | 博士 |
答辩日期 | 2009 |
授予单位 | 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) |
导师 | 邹世昌 |
学位专业 | 微电子学与固体电子学 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-06 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/82586] |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙凌. 应用于集成电路器件的超薄栅氧化层工艺研发[D]. 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) . 2009. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论