Ni过渡层对Co/Cu/Co三明治膜微结构及巨磁电阻性能的影响

	Ni过渡层对Co/Cu/Co三明治膜微结构及巨磁电阻性能的影响
	李铁 ; 沈鸿烈 ; 沈勤我 ; 李冠雄 ; 邹世昌
	1999-02
会议名称	第五届全国STM学术会议论文集
会议日期	1999-02
中文摘要	本文利用原子力显微镜对具有不同厚度 Ni 过渡层的 Co 5．0nm/Cu 3．5nm/Co 5．0nm 三明治在各个制备阶段样品的表面形貌进行了系统的研究,并结合 X 射线衍射的结果,发现 Ni 过渡层可以使 Co/Cu/Co 三明治的界面平整,并形成强的(111)织构,从而导致材料的巨磁电阻值增大和矫顽力减少。电阻率的分析则表明过厚的 Ni 过渡层由于分流效应的存在会削弱材料的巨磁电阻值。
会议录	第五届全国STM学术会议论文集
会议录出版者	中国电子显微镜学会
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/56650]
专题	上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_国内会议论文
推荐引用方式 GB/T 7714	李铁,沈鸿烈,沈勤我,等. Ni过渡层对Co/Cu/Co三明治膜微结构及巨磁电阻性能的影响[C]. 见:第五届全国STM学术会议论文集. 1999-02.