金刚石多晶薄膜场致发射的初步研究 | |
何国鸿 ; 陈抗生 ; 毛敏跃 ; 王渭源 | |
2005 | |
会议名称 | 中国电子学会真空电子学分会第十届年会论文集(下册) |
会议日期 | 2005 |
中文摘要 | <正>一、引言最近的研究表明,(111)晶向的金刚石具有负的电子亲合势。这一特性可使得金刚石,尤其是N型金刚石,在极低的电场强度下(小于1伏/微米)就能获得电子发射;而一般逸出功为4.5eV的金属要得到场发射,表面场强至少要求达到1000伏/微米。因此,金刚石有可能成为一种性能很好的冷阴极材料。我们用微波低压气相沉积方法在硅衬底上生长出多晶金刚石薄膜,对其进行了场发射电学性能测量,得到与M.W.Geis等人的实验相近的结果。我们 |
会议录 | 中国电子学会真空电子学分会第十届年会论文集(下册)
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语种 | 中文 |
内容类型 | 会议论文 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/56492] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_国内会议论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 何国鸿,陈抗生,毛敏跃,等. 金刚石多晶薄膜场致发射的初步研究[C]. 见:中国电子学会真空电子学分会第十届年会论文集(下册). 2005. |
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