氮化硅透明陶瓷光学薄膜的制备与特性分析 | |
程芸; 杨明红; 代吉祥; 杨志 | |
刊名 | 材料导报 |
2013 | |
卷号 | 27期号:1B页码:31-34 |
关键词 | 氮化硅薄膜 射频溅射 光学性能 |
ISSN号 | 1005-023X |
DOI | 10.3969/j.issn.1005-023X.2013.02.009 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3405352 |
专题 | 武汉理工大学 |
作者单位 | 1.[程芸 2.杨明红 3.代吉祥 4.杨志] 武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 程芸,杨明红,代吉祥,等. 氮化硅透明陶瓷光学薄膜的制备与特性分析[J]. 材料导报,2013,27(1B):31-34. |
APA | 程芸,杨明红,代吉祥,&杨志.(2013).氮化硅透明陶瓷光学薄膜的制备与特性分析.材料导报,27(1B),31-34. |
MLA | 程芸,et al."氮化硅透明陶瓷光学薄膜的制备与特性分析".材料导报 27.1B(2013):31-34. |
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