CORC  > 武汉理工大学
氮化硅透明陶瓷光学薄膜的制备与特性分析
程芸; 杨明红; 代吉祥; 杨志
刊名材料导报
2013
卷号27期号:1B页码:31-34
关键词氮化硅薄膜 射频溅射 光学性能
ISSN号1005-023X
DOI10.3969/j.issn.1005-023X.2013.02.009
URL标识查看原文
内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3405352
专题武汉理工大学
作者单位1.[程芸
2.杨明红
3.代吉祥
4.杨志] 武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
程芸,杨明红,代吉祥,等. 氮化硅透明陶瓷光学薄膜的制备与特性分析[J]. 材料导报,2013,27(1B):31-34.
APA 程芸,杨明红,代吉祥,&杨志.(2013).氮化硅透明陶瓷光学薄膜的制备与特性分析.材料导报,27(1B),31-34.
MLA 程芸,et al."氮化硅透明陶瓷光学薄膜的制备与特性分析".材料导报 27.1B(2013):31-34.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace