一种氧化物巨磁电阻薄膜、制备方法及其用途
沈鸿烈 ; ∴本孝一 ; 祝向荣 ; 柳泽武 ; 邹世昌
1999
专利国别中国
专利号CN1221988
专利类型发明
权利人中国科学院上海冶金研究所
中文摘要本发明涉及一种氧化物巨磁电阻薄膜、制备方法以及薄膜的用途。采用摩尔浓度为0.1摩尔/升至0.5摩尔/升的金属有机物溶液,按摩尔体积比例配制成均匀的目标溶液后,用旋转甩胶制备湿膜。再经前烘和烧结后,制备成钙钛矿结构的氧化物巨磁电阻薄膜。本方法具有工艺简单,重复性好,大面积均匀,成本低,衬底价格低廉和设备要求不高等特点,易于操作控制和推广应用。该巨磁电阻薄膜具有输出信号大,室温下电阻率随外磁场呈线性变化等特性,适合于制备磁敏器件和自旋极化三极管等。
是否PCT专利
公开日期1999-07-07
申请日期1998-12-04
语种中文
专利申请号98122068.1
专利代理邬震中 ; 高毓秋
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/52681]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_冶金所专利
推荐引用方式
GB/T 7714
沈鸿烈,∴本孝一,祝向荣,等. 一种氧化物巨磁电阻薄膜、制备方法及其用途. CN1221988. 1999-01-01.
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