气态源分子束外延1.3μm VCSEL器件结构

	气态源分子束外延1.3μm VCSEL器件结构
	刘成 ; 吴惠桢 ; 劳燕锋 ; 黄占超 ; 曹萌
刊名	功能材料与器件学报
	2005
期号	02
关键词	微型PEMFC 膜电极性能优化综合性能
ISSN号	1007-4252
中文摘要	采用气态源分子束外延(GSMBE)技术在InP(100)衬底上生长了InAsP/InGaAsP应变补偿量子阱为有源层和InP/InGaAsP分布布拉格反射镜(DBR)为上、下腔镜的垂直腔面发射激光器(VCSEL)结构。通过湿法刻蚀和聚酰亚胺隔离工艺制作出了1.3μmVCSEL,器件在室温下可连续单模激射,阈值电流约为4mA。实验测得的VCSEL结构反射光谱包括高反射带和腔模等参数与传递矩阵法拟合的反射光谱相符合;边发射电致发光谱的增益峰与腔模位置一致。
语种	中文
公开日期	2012-01-06
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50630]
专题	上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	刘成,吴惠桢,劳燕锋,等. 气态源分子束外延1.3μm VCSEL器件结构[J]. 功能材料与器件学报,2005(02).
APA	刘成,吴惠桢,劳燕锋,黄占超,&曹萌.(2005).气态源分子束外延1.3μm VCSEL器件结构.功能材料与器件学报(02).
MLA	刘成,et al."气态源分子束外延1.3μm VCSEL器件结构".功能材料与器件学报 .02(2005).