| 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用 | |
| 张泽芳 ; 刘卫丽 ; 宋志棠 | |
| 2010-09-01 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN101818047A |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 中文摘要 | 本发明属于微电子加工中的化学机械抛光浆液领域，具体涉及氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用。本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒包含氧化硅和氧化铈，且所述复合磨料颗粒的内核为球形氧化硅内核，外壳为氧化铈包覆层。由本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒配制成的抛光液对超大规模集成电路玻璃、二氧化硅介质层和STI进行抛光，可以提高抛光去除率和抛光选择比，减少抛光缺陷。 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2010-09-01 |
| 申请日期 | 2010-02-08 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 201010106871.3 |
| 专利代理 | 许亦琳 ; 余明伟 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49404]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张泽芳,刘卫丽,宋志棠. 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用. CN101818047A. 2010-09-01. |
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