纳米复合相变材料、制备方法、及作为相变存储器的用途
宋三年 ; 宋志棠
2010-07-21
专利国别中国
专利号CN101783391A
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明提供一种纳米复合相变材料、制备方法、及作为相变存储器的用途,其中,所述纳米复合相变材料包含:重量百分比为8-36%的Ta2O5、和重量百分比为64-92%的相变材料,由于相变材料与Ta2O5在纳米尺度的均匀复合,Ta2O5的存在一方面抑制了相变材料晶粒的长大,提升了材料的电阻率和晶化温度,增加了材料的热稳定性;另一方面由于晶界密度的增加,材料的热导率减小,同时Ta2O5的引入提升了材料的介电常数,有利于器件阈值电压的减小。这种新型纳米复合相变薄膜应用到存储器中,可使相变存储器件的RESET电压降低,
是否PCT专利
公开日期2010-07-21
申请日期2010-02-04
语种中文
专利申请号201010105702.8
专利代理李仪萍
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49364]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
宋三年,宋志棠. 纳米复合相变材料、制备方法、及作为相变存储器的用途. CN101783391A. 2010-07-21.
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