一种浮体动态随机存储器的单元结构及其制作工艺
肖德元 ; 王曦 ; 陈静
2010-07-07
专利国别中国
专利号CN101771051A
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明公开了一种浮体动态随机存储器的单元结构及其制作工艺。其结构包括位于埋层氧化层上的N型半导体区、位于N型半导体区上的P型半导体区以及位于P型半导体区上的栅极区,P型半导体区、N型半导体区四周设有电隔离区。利用隔离的浮体栅二极管作存储节点,通过带与带间的隧道穿透,空穴在浮体积聚定义为第一种存储状态;通过PN结正向偏置,空穴从浮体发射出去或者电子注入到浮体,定义为第二种存储状态;这两种状态造成浮体栅二极管(P+/N+)正向开启电压的差异,通过电流的大小可以感知。本发明是一种高效低功耗高密度栅二极管(P+/
是否PCT专利
公开日期2010-07-07
申请日期2009-12-25
语种中文
专利申请号200910200964.X
专利代理李仪萍 ; 余明伟
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49348]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
肖德元,王曦,陈静. 一种浮体动态随机存储器的单元结构及其制作工艺. CN101771051A. 2010-07-07.
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