一种利用稀磁半导体测量多量子阱耦合的方法
郭旭光 ; 曹俊诚
2009-03-11
专利国别中国
专利号N101383305
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明涉及一种利用稀磁半导体测量多量子阱耦合的方法,其特征在于利用稀磁半导体中的巨塞曼分裂,用平行于生长方向的磁场调控阱深或垒高,对耦合多量子阱进行测量。并以Zn0.8Cd0.2/ZnSe对称耦合三量子阱为例,在理论上对实验方案的有效性进行了验证。利用本发明提供的方法,有效地降低了样品制备的要求和工作量,提高了实验精度。
是否PCT专利
公开日期2009
申请日期2007-09-07
语种中文
专利申请号200710045700.2
专利代理潘振甦
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48937]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
郭旭光,曹俊诚. 一种利用稀磁半导体测量多量子阱耦合的方法. N101383305. 2009-03-11.
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