| 硫系化合物相变材料氧化铈化学机械抛光液 | |
| 王良咏 ; 宋志棠 ; 刘波 ; 封松林 | |
| 2009-02-25 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN101372606 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 中文摘要 | 本发明提供一种硫系化合物相变材料氧化铈化学机械抛光液,其以抛光液总重量为基准,包含0.01-5WT%的氧化剂、0.01-4WT%的表面活性剂、0.01-3WT%的有机添加剂、0.2-30WT%的氧化铈抛光颗粒及PH调节剂、水性介质。此抛光液主要应用于硫系化合物相变材料GEXSBYTE(1-X-Y)的CMP工艺。通过本发明提供的氧化铈化学机械抛光液,相变材料GEXSBYTE(1-X-Y)的抛光速率可控制在5NM/MIN到1500NM/MIN,同时表面粗糙度降低到了7.4以下。利用上述抛光液对相变材料GEX |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2009-02-25 |
| 申请日期 | 2008-10-14 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 200810201175.3 |
| 专利代理 | 余明伟 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48933]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王良咏,宋志棠,刘波,等. 硫系化合物相变材料氧化铈化学机械抛光液. CN101372606. 2009-02-25. |
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