减小相变存储器加热电极面积的方法
吴良才 ; 宋志棠 ; 刘波 ; 冯高明 ; 封松林
2006-11-29
专利国别中国
专利号CN1870314
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明涉及一种减小相变存储器加热电极的方法,首先通过微纳加工技 术或亚微米CMOS标准工艺,在SiO2衬底上制备出较大直径的200-500nm 的孔洞,接着利用CVD或PVD技术在该孔洞中填充W、TiN等加热材料, 然后进行化学机械抛光,形成柱状加热电极。之后,在柱状加热电极上生长 量子点(如Si等),然后将量子点氧化形成绝缘的物质(如SiO2等),这样 就减小了柱状加热电极的有效面积,从而提高电流密度。本发明既避免了直 接制备100nm以下加热电极的困难,降低了制造成本,更重要的是降低相 变存储器的功耗
是否PCT专利
公开日期2006-11-29
申请日期2006-06-23
语种中文
专利申请号200610028107.2
专利代理潘振甦
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48315]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
吴良才,宋志棠,刘波,等. 减小相变存储器加热电极面积的方法. CN1870314. 2006-11-29.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace