一种低温圆片级微型气体盒的制作方法
刘玉菲 ; 吴亚明 ; 李四华 ; 刘文平
2006-09-06
专利国别中国
专利号CN1827522
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明涉及一种低温圆片级微型气体盒的制作方法,其特征在于利用苯并环 丁烯材料进行材料键合和半导体材料的湿法腐蚀或干法刻蚀技术,在250℃的低 温条件下键合,实现芯片级气体盒的圆片级气密性封装键合,包括芯片级原子钟 气体盒、高精度磁场传感器气体盒、原子反馈式微光稳频装置的原子气体盒、原 子滤光器的原子气体盒或微光学法布里-珀罗腔制作,键合后BCB胶厚度为 0.2μm,密封腔体He气的气密性达2.1~5.9×10-4Pa cm3/s,键合强度大于 4.65MPa以及
是否PCT专利
公开日期2006-09-06
申请日期2006-01-13
语种中文
专利申请号200610023325.7
专利代理潘振甦
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48263]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
刘玉菲,吴亚明,李四华,等. 一种低温圆片级微型气体盒的制作方法. CN1827522. 2006-09-06.
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