磷化铟基含砷含磷量子级联激光器结构及不间断生长法
李爱珍 ; 陈建新 ; 李华 ; 徐刚毅 ; 张永刚 ; 林春 ; 杨全魁 ; 李存才 ; 胡建
2006-02-08
专利国别中国
专利号CN1731638
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明涉及中红外低阈值电流密度InP基含砷含磷量子级联激光器结构 及其不间断连续生长制备方法。其特征是:(1)四种中红外InP基含砷含磷量 子级联激光器结构。这四种QCL结构的特点是:(a)都包括了InP基含砷含 磷GaInAs/AlInAs/GaInAs/InP/InP或GaInAs/InP/GaInAs/AlInAs/InP/InP;(b) 只采用硅一种施主掺杂剂;(c)采用InP/InP复合下波导包裹层;在InP和 GaInAs间相互过渡时采用InP/GaInAs或GaInAs/InP数字递变超晶格
是否PCT专利
公开日期2006-02-08
申请日期2005-08-31
语种中文
专利申请号200510029275.9
专利代理潘振甦
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48209]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
李爱珍,陈建新,李华,等. 磷化铟基含砷含磷量子级联激光器结构及不间断生长法. CN1731638. 2006-02-08.
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