一种相变微、纳电子存储器器件及制作方法
刘波 ; 宋志棠 ; 封松林 ; 陈邦明
2005-03-23
专利国别中国
专利号CN1599068
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明设计了一种新型相变微、纳电子存储器器件及其制备方法。本发明的设计原理是基于尖端效应,即施加电压后,图形尖端处的电阻或电流会很大,是器件单元中相变层发生相变的触发点。通过采用薄膜制备工艺在衬底上制备出器件的各层薄膜,然后利用微细加工工艺制备出含有尖端的器件单元,器件单元中的发生相变区域的尺寸大约在2到200nm范围内,多个器件单元重复排列就构成了微、纳电子存储器器件。这种微、纳电子存储器器件结构简单、制备方便、能与现在的半导体工艺很好地兼容,并且还可以很容易实现器件单元的小尺寸化,有利于提高集成电路的
是否PCT专利
公开日期2005-03-23
申请日期2004-08-13
语种中文
专利申请号200410053752.0
专利代理潘振甦
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48073]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
刘波,宋志棠,封松林,等. 一种相变微、纳电子存储器器件及制作方法. CN1599068. 2005-03-23.
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