| 一种采用反应磁控溅射制备二氧化铪基铁电薄膜的方法 | |
| 周大雨; 孙纳纳; 徐进; 徐军; 张昱; 赵鹏 | |
| 2018 | |
| 权利人 | 大连理工大学 |
| 公开日期 | 2018-08-24 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 申请日期 | 2018-03-01 |
| WOS记录号 | [db:dc_identifier_wosid] |
| 内容类型 | 专利 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3248231 |
| 专题 | 大连理工大学 |
| 作者单位 | 大连理工大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周大雨,孙纳纳,徐进,等. 一种采用反应磁控溅射制备二氧化铪基铁电薄膜的方法. 2018-01-01. |
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