CORC  > 大连理工大学
气流场驱动下栅片中弧压提升特性的数值分析
张明; 王永兴; 田宇; 董恩源; 丛宇
刊名电工技术学报
2019
卷号34页码:2752-2759
关键词磁流体动力学 栅片灭弧 气流场 电弧电压
ISSN号1000-6753
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WOS记录号[db:dc_identifier_wosid]
内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3228758
专题大连理工大学
作者单位1.大连理工大学电气工程学院 大连 116024
2.大连供电公司 大连 116000
推荐引用方式
GB/T 7714
张明,王永兴,田宇,等. 气流场驱动下栅片中弧压提升特性的数值分析[J]. 电工技术学报,2019,34:2752-2759.
APA 张明,王永兴,田宇,董恩源,&丛宇.(2019).气流场驱动下栅片中弧压提升特性的数值分析.电工技术学报,34,2752-2759.
MLA 张明,et al."气流场驱动下栅片中弧压提升特性的数值分析".电工技术学报 34(2019):2752-2759.
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