气流场驱动下栅片中弧压提升特性的数值分析 | |
张明; 王永兴; 田宇; 董恩源; 丛宇 | |
刊名 | 电工技术学报
![]() |
2019 | |
卷号 | 34页码:2752-2759 |
关键词 | 磁流体动力学 栅片灭弧 气流场 电弧电压 |
ISSN号 | 1000-6753 |
URL标识 | 查看原文 |
WOS记录号 | [db:dc_identifier_wosid] |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3228758 |
专题 | 大连理工大学 |
作者单位 | 1.大连理工大学电气工程学院 大连 116024 2.大连供电公司 大连 116000 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张明,王永兴,田宇,等. 气流场驱动下栅片中弧压提升特性的数值分析[J]. 电工技术学报,2019,34:2752-2759. |
APA | 张明,王永兴,田宇,董恩源,&丛宇.(2019).气流场驱动下栅片中弧压提升特性的数值分析.电工技术学报,34,2752-2759. |
MLA | 张明,et al."气流场驱动下栅片中弧压提升特性的数值分析".电工技术学报 34(2019):2752-2759. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论