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	磁控溅射技术制备二氧化钛薄膜研究进展 Titanium-oxide Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering Method
	王博[1]; 魏世丞[1]; 王玉江[1]; 郭蕾[1]; 梁义[1]; 潘复生[2]; 徐滨士[1]
	2018
卷号	47页码:257-264
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3198283
专题	重庆大学
推荐引用方式 GB/T 7714	王博[1],魏世丞[1],王玉江[1],等. 磁控溅射技术制备二氧化钛薄膜研究进展 Titanium-oxide Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering Method[J],2018,47:257-264.
APA	王博[1].,魏世丞[1].,王玉江[1].,郭蕾[1].,梁义[1].,...&徐滨士[1].(2018).磁控溅射技术制备二氧化钛薄膜研究进展 Titanium-oxide Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering Method.,47,257-264.
MLA	王博[1],et al."磁控溅射技术制备二氧化钛薄膜研究进展 Titanium-oxide Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering Method".47(2018):257-264.

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