镀铋膜修饰玻碳电极方波伏安法测定豆芽中痕量铬 Square Wave Voltammetry Determination of Trace Chromium in Sprouts at the Bismuth Film Electrode | |
刘成伦[1,2]; 杨玉娥[1]; 周庆华[1]; 陈林[1]; 丁德健[3] | |
2010 | |
卷号 | 31页码:143-146 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3032351 |
专题 | 重庆大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘成伦[1,2],杨玉娥[1],周庆华[1],等. 镀铋膜修饰玻碳电极方波伏安法测定豆芽中痕量铬 Square Wave Voltammetry Determination of Trace Chromium in Sprouts at the Bismuth Film Electrode[J],2010,31:143-146. |
APA | 刘成伦[1,2],杨玉娥[1],周庆华[1],陈林[1],&丁德健[3].(2010).镀铋膜修饰玻碳电极方波伏安法测定豆芽中痕量铬 Square Wave Voltammetry Determination of Trace Chromium in Sprouts at the Bismuth Film Electrode.,31,143-146. |
MLA | 刘成伦[1,2],et al."镀铋膜修饰玻碳电极方波伏安法测定豆芽中痕量铬 Square Wave Voltammetry Determination of Trace Chromium in Sprouts at the Bismuth Film Electrode".31(2010):143-146. |
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