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	镀铋膜修饰玻碳电极方波伏安法测定豆芽中痕量铬 Square Wave Voltammetry Determination of Trace Chromium in Sprouts at the Bismuth Film Electrode
	刘成伦[1,2]; 杨玉娥[1]; 周庆华[1]; 陈林[1]; 丁德健[3]
	2010
卷号	31页码:143-146
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3032351
专题	重庆大学
推荐引用方式 GB/T 7714	刘成伦[1,2],杨玉娥[1],周庆华[1],等. 镀铋膜修饰玻碳电极方波伏安法测定豆芽中痕量铬 Square Wave Voltammetry Determination of Trace Chromium in Sprouts at the Bismuth Film Electrode[J],2010,31:143-146.
APA	刘成伦[1,2],杨玉娥[1],周庆华[1],陈林[1],&丁德健[3].(2010).镀铋膜修饰玻碳电极方波伏安法测定豆芽中痕量铬 Square Wave Voltammetry Determination of Trace Chromium in Sprouts at the Bismuth Film Electrode.,31,143-146.
MLA	刘成伦[1,2],et al."镀铋膜修饰玻碳电极方波伏安法测定豆芽中痕量铬 Square Wave Voltammetry Determination of Trace Chromium in Sprouts at the Bismuth Film Electrode".31(2010):143-146.

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