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	双沟平面掩埋结构SLD的液相外延生长及漏电分析 Analysis on Current Leakage in DCPBH-SLD Grown by LPE
	段利华[1,2]; 方亮[1]; 周勇[2]; 周雪梅[2]; 韩伟峰[2]; 罗庆春[2]; 黄茂[2]
	2012
卷号	33页码:342-345
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3002831
专题	重庆大学
推荐引用方式 GB/T 7714	段利华[1,2],方亮[1],周勇[2],等. 双沟平面掩埋结构SLD的液相外延生长及漏电分析 Analysis on Current Leakage in DCPBH-SLD Grown by LPE[J],2012,33:342-345.
APA	段利华[1,2].,方亮[1].,周勇[2].,周雪梅[2].,韩伟峰[2].,...&黄茂[2].(2012).双沟平面掩埋结构SLD的液相外延生长及漏电分析 Analysis on Current Leakage in DCPBH-SLD Grown by LPE.,33,342-345.
MLA	段利华[1,2],et al."双沟平面掩埋结构SLD的液相外延生长及漏电分析 Analysis on Current Leakage in DCPBH-SLD Grown by LPE".33(2012):342-345.

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