| NiPd/Si界面常温扩散及硅化物形成的XPS证据 | |
| 张国庆1; 刘冰1; 姚素薇1; 郭鹤桐1; 何菲2; 龚正烈3 | |
| 刊名 | 物理化学学报
 |
| 1997 | |
| 卷号 | 第13卷页码:P164-169 |
| 关键词 | XPS/NiPd/Si界面/扩散/金属硅化物 |
| ISSN号 | 1000-6818 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2935614 |
| 专题 | 天津大学 |
| 作者单位 | 1.天津大学应用化学系, 天津/2.天津大学, 一碳化工国家重点实验室, 天津/3.天津理工学院物理系, 天津, 300191 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张国庆1,刘冰1,姚素薇1,等. NiPd/Si界面常温扩散及硅化物形成的XPS证据[J]. 物理化学学报,1997,第13卷:P164-169. |
| APA | 张国庆1,刘冰1,姚素薇1,郭鹤桐1,何菲2,&龚正烈3.(1997).NiPd/Si界面常温扩散及硅化物形成的XPS证据.物理化学学报,第13卷,P164-169. |
| MLA | 张国庆1,et al."NiPd/Si界面常温扩散及硅化物形成的XPS证据".物理化学学报 第13卷(1997):P164-169. |
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