| 题名 | TiOx/Al2O3叠层结构薄膜的原子层沉积（ALD） 制备及阻变性能研究 |
| 作者 | 刘伟霞 |
| 答辩日期 | 2017 |
| 导师 | 马飞 |
| 关键词 | 阻变存储器 TiOx薄膜 Al2O3插层 导电细丝 氧空位 |
| 学位名称 | 工学硕士 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2926759 |
| 专题 | 西安交通大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘伟霞. TiOx/Al2O3叠层结构薄膜的原子层沉积（ALD） 制备及阻变性能研究[D]. 2017. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论