面向5nmCMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究

	面向5nmCMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究
	王桂磊 ; 李俊杰 ; 张兆浩 ; 殷华湘 ; 余金中 ; 李志华 ; 闫江 ; 吴次南 ; 张青竹 ; 曹志军
刊名	真空科学与技术学报
	2018-02-15
文献子类	期刊论文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://159.226.55.107/handle/172511/19198]
专题	微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位	1.中国科学院大学 2.北京有色金属研究总院 3.北方工业大学 4.中国科学院微电子研究所 5.贵州大学
推荐引用方式 GB/T 7714	王桂磊,李俊杰,张兆浩,等. 面向5nmCMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究[J]. 真空科学与技术学报,2018.
APA	王桂磊.,李俊杰.,张兆浩.,殷华湘.,余金中.,...&曹志军.(2018).面向5nmCMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究.真空科学与技术学报.
MLA	王桂磊,et al."面向5nmCMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究".真空科学与技术学报 (2018).