金属栅电极等效功函数调节方法
王文武; 杨红; 罗维春; 闫江
2017-11-28
著作权人中国科学院微电子研究所
专利号US9831089
国家美国
文献子类发明专利
英文摘要

A method for adjusting an effective work function of a metal gate. The method includes forming a metal gate arrangement comprising at least a metal work function layer, and performing plasma treatment on at least one layer in the metal gate arrangement. In this way, it is possible to adjust the effective work function of the metal gate in a relatively flexible way.

公开日期2015-02-05
申请日期2013-08-30
语种中文
内容类型专利
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/18191]  
专题微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王文武,杨红,罗维春,等. 金属栅电极等效功函数调节方法. US9831089. 2017-11-28.
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