| Effective solution for the 14nm node multiple patterning lithography | |
Su YJ(粟雅娟) ; Yu LX(于丽贤); Wei YY(韦亚一); Su XJ(苏晓菁); Song ZY(宋之洋); Guo MR(郭沫然); Duan YL(段英丽)
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| 2016-03-16 | |
| 文献子类 | 会议论文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/16342]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Su YJ,Yu LX,Wei YY,et al. Effective solution for the 14nm node multiple patterning lithography[C]. 见:. |
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