Atomic layer deposition assisted pattern transfer technology for ultra-thin block copolymer films | |
Chen WH(陈文辉); Luo J(罗军)![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() | |
刊名 | Thin Solid Films
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2016-08-31 | |
文献子类 | 期刊论文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/16215] ![]() |
专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Chen WH,Luo J,Meng LK,et al. Atomic layer deposition assisted pattern transfer technology for ultra-thin block copolymer films[J]. Thin Solid Films,2016. |
APA | Chen WH.,Luo J.,Meng LK.,Li JJ.,Xiang JJ.,...&Ye TC.(2016).Atomic layer deposition assisted pattern transfer technology for ultra-thin block copolymer films.Thin Solid Films. |
MLA | Chen WH,et al."Atomic layer deposition assisted pattern transfer technology for ultra-thin block copolymer films".Thin Solid Films (2016). |
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