小尺寸鳍形结构的制造方法

	小尺寸鳍形结构的制造方法
	杨涛; 赵超; 李俊峰; 卢一泓
	2015-12-09
著作权人	中国科学院微电子研究所
专利号	CN201110261527.6
国家	中国
文献子类	发明专利
英文摘要	本发明提供了一种小尺寸鳍形结构的制造方法，包括以下步骤：在衬底上依次形成第一掩模层和第二掩模层；刻蚀第一掩模层和第二掩模层形成硬掩模图形，其中第二掩模层图形比第一掩模层图形宽；去除第二掩模层图形；以第一掩模层图形为掩模，干法刻蚀衬底，形成鳍形结构。依照本发明的小尺寸鳍形结构制造方法，先制备较大尺寸的硬掩模，而后通过湿法腐蚀制备出宽度可控的、小尺寸硬掩模，最终利用在体硅晶圆的刻蚀上，从而得到所需的小尺寸鳍形结构，提高了器件的电学性能以及集成度，并简化了工艺降低了成本。
公开日期	2013-03-20
申请日期	2011-09-05
语种	中文
内容类型	专利
源URL	[http://159.226.55.106/handle/172511/15618]
专题	微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	杨涛,赵超,李俊峰,等. 小尺寸鳍形结构的制造方法. CN201110261527.6. 2015-12-09.