一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法
王文东; 夏洋; 李楠
2018-07-13
著作权人中国科学院微电子研究所 ; 北京美桥电子设备有限公司
专利号CN201310695413.1
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

 本发明涉及半导体刻蚀机内衬及石英表面防蚀处理技术领域,具体涉及一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法。所述制备方法,包括如下步骤:步骤(1),选择碳化硼粉末,并将碳化硼粉末送入等离子喷涂设备;步骤(2),对待喷涂的石英基材的表面进行Ti离子注入处理,然后使用丙酮和无水乙醇对石英基材的表面进行清洗;步骤(3),通过等离子喷涂设备在石英基材的表面进行等离子喷涂,制备出碳化硼涂层。本发明在石英基材表面进行Ti离子注入处理,增大了石英基材表面的粗糙度,从而可以提高碳化硼涂层与石英基材之间的界面结合强度。

公开日期2015-06-17
申请日期2013-12-17
语种中文
内容类型专利
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/18690]  
专题微电子研究所_微电子仪器设备研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王文东,夏洋,李楠. 一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法. CN201310695413.1. 2018-07-13.
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