一种原子层沉积制备施主-受主共掺氧化锌薄膜的方法
解婧; 李超波; 夏洋; 卢维尔
2012-12-11
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明
英文摘要本发明公开一种原子层沉积制备施主-受主共掺氧化锌薄膜的方法,包括将基片放入ALD反应腔室中,对基片及腔室管道进行加热,然后依次进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在第一次锌源沉积后,分别引入一次包含III主族元素X的施主掺杂源的掺杂沉积、第二次锌源沉积、至少两次氮掺杂源沉积及至少两次氧源沉积,形成N-X-N的共掺;所述氮掺杂源沉积和所述氧源的沉积顺序是先氮掺杂源沉积,后氧源沉积;所述包含III主族元素施主掺杂源沉积与所述第二次锌源沉积顺序是先包含III主族元素施主掺杂源沉积,后第二次锌源沉积。该方法可以对氧化锌薄膜进行原位的施主-受主的共掺,以增加受主元素的掺入量,促进氧化锌薄膜的p型转变。
内容类型专利
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/16513]  
专题微电子研究所_微电子仪器设备研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
解婧,李超波,夏洋,等. 一种原子层沉积制备施主-受主共掺氧化锌薄膜的方法. 2012-12-11.
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