全反射式宽光谱成像椭偏仪

	全反射式宽光谱成像椭偏仪
	刘涛; 熊伟
刊名	光电工程
	2016-01-15
文献子类	期刊论文
英文摘要	本论文采用全反射式光学聚焦结构,通过独特的偏振控制技术,实现宽光谱、无色差成像椭偏仪的研制。在系统校准过程中采用多样品校准方法,利用校准得到的系统参数对待测样品进行成像椭偏分析,确定样品椭偏角ψ和s及薄膜厚度的空间分布。为测试自制成像椭偏仪的准确性,本文对3 nm~300 nm的Si O2/Si样品在200 nm~1 000 nm内多波长下进行成像椭偏测量。实验结果表明,Si O2薄膜厚度最大相对测量误差小于6%。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://159.226.55.106/handle/172511/16177]
专题	微电子研究所_微电子仪器设备研发中心
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	刘涛,熊伟. 全反射式宽光谱成像椭偏仪[J]. 光电工程,2016.
APA	刘涛,&熊伟.(2016).全反射式宽光谱成像椭偏仪.光电工程.
MLA	刘涛,et al."全反射式宽光谱成像椭偏仪".光电工程 (2016).